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氬氧等離子清洗機原理

文章出處:等離子清洗機廠家 | 深圳納恩科技有限公司| 發表時間:2025-04-09
氧等離子清洗機是一種利用等離子體技術對物體表面進行處理的設備,其原理主要涉及等離子體的產生以及等離子體與物體表面的相互作用,具體如下:

等離子體的產生:在等離子清洗機中,通常通過射頻(RF)、微波等電源將氬氣(Ar)和氧氣(O?)等氣體激發成等離子體。以射頻電源為例,當射頻電場施加到氣體放電區域時,電場會加速氣體中的自由電子,使其獲得足夠的能量與氣體分子發生碰撞。在碰撞過程中,氣體分子被電離,產生大量的離子、電子和激發態原子等,從而形成等離子體。

等離子體與物體表面的相互作用

物理作用:氬離子(Ar?)在電場作用下會加速向物體表面運動,具有一定能量的氬離子撞擊物體表面時,會將表面的污染物如灰塵、油脂等物理性地轟擊下來,這種作用類似于 “微噴砂” 效果,能夠去除物體表面的雜質,同時還可以對表面進行粗化處理,增加表面的粗糙度,提高表面的附著力。

化學作用:氧氣等離子體中的氧原子(O)、氧離子(O?)和臭氧(O?)等具有很強的氧化性,它們會與物體表面的有機污染物發生化學反應,將其轉化為二氧化碳(CO?)、水(H?O)等易揮發的物質,然后被真空泵抽走,從而達到清洗的目的。此外,對于一些高分子材料表面,氧等離子體還可以引入羥基(-OH)、羧基(-COOH)等極性基團,提高材料表面的親水性和化學活性。

通過氬氧等離子體的物理和化學協同作用,氬氧等離子清洗機能夠高效、徹底地清洗物體表面,并且可以在不損傷物體基體的情況下,改善物體表面的性能,廣泛應用于電子、光學、生物醫學、航空航天等多個領域。

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